TFT LCD面板 / 发展历程

概述

　目前在市场上可见到的中小尺寸面板技术主要分为TN、M-STN、C-STN、a-Si TFT、LTPS、HTPS、OLED等面板技术。
　TN型为液晶扭转角度为90度之面板技术，目前应用在计算器等比较低阶的面板产品上。STN型为液晶扭转角度240度,一般适用在手机与数字像机或工业机台之面板，STN又分为彩色的C-STN与单色的M-STN两种产品。
　TFT面板依照液晶扭转度不同分为3大类:1.TN型TFT;2.MVA型TFT;3.IPS型TFT，而目前中、小尺寸面板多为TN型TFT。若依照技术与制程不同则为a-Si TFT(非晶硅)、LTPS(低温多晶硅)、HTPS(高温多晶硅)等三种。目前a-Si TFT已被广泛应用于各种产品，LTPS则也正在逐渐渗透入各类应用产品，唯独HTPS由于制程问题，在中小尺寸，仅应用于相机观景窗上。
　OLED(有机电激发光显示器)为一外加偏压，使电子电洞经过电洞与电子两传输层后，进入具有发光特性的有机物质所产生一种面板技术，目前分为主动式(AM)与被子与低分子两种，量产化OLED产品主要以被动式OLED为主，而主动式OLED则由于部分技术瓶颈还未突破，使得发展有延滞状况。 

     从技术上讲，自20世纪70年代起，液晶显示器先后经历TN、STN、a-Si TFT（TN模式）、大型TFT（IPS, MVA, OCB等模式）等四个发展阶段，并成功解决了扩大开口率、提高辉度、增大视角、提高响应速度、增大画面尺寸、扩大色域等问题，从而使其应用领域迅速扩展。

     玻璃母板尺寸决定整个TFT LCD生产线的投资规模、技术水平、切割面板尺寸、价格，从而决定了市场竞争力，因此产业化水平以玻璃母板的“代”为标志。从1991年的第1代（300mm×350mm）开始，目前正筹建第9代，甚至第10代（2600mm×3100mm）生产线。在过去的十几年中，开始是按每两年一代，近几年甚至按每年一代的速度扩大。与此相应，面板尺寸、像素数、像素密度也按类似于半导体摩尔定律的规模增加。

     今天TFT LCD技术仍在不断进步，突出表现为简化工艺的采用、生产效率的提高，以便进一步降低价格。据预测，TFT LCD下一个发展阶段是可支持用户各种各样的附加功能，可在任何场合使用的创能型显示器。

     需要指出的是，无论是研究开发还是产业化，要进入TFT LCD领域，门槛是很高的。必须认识到，TFT LCD是多元知识和技能的总汇，涉及包括液晶物理和化学、光学、材料科学、彩色化技术、驱动电路、制造工艺等多学科的原理和技术，如果不深入探讨，系统学习，很难将这些知识融会贯通。而这对于入门者来说费力劳神，又谈何容易。